高純度の二酸化ゲルマニウムは、巨大なアプリケーション スペースを持っています

高純度の二酸化ゲルマニウムは、巨大なアプリケーション スペースを持っています
二酸化ゲルマニウムをドープした酸化物半導体は広く注目されており、ドープされた TiO2、SnO2、および ZnO 材料の調製と特性が最も研究されています。 二酸化ゲルマニウム材料は、光学、触媒、生物学、特に光学の分野で広く使用されています。 二酸化ゲルマニウムは、独自の発光特性を持つワイド バンド ギャップ (5eV) の材料です。 また、ドーピングにより発光スペクトルの波長を調整することもできます。 その発光ピーク P の分布が青色光から近赤外光の範囲にあるというデータもあります。 また、二酸化ゲルマニウムは屈折率が高いため、光導波路材料として使用でき、ドーピングによって特性をさらに調整できます。 この種の二酸化ゲルマニウム材料は、ゲルマニウムアルコキシドを前駆体として使用して、ゾルゲル法によって二酸化ゲルマニウム薄膜を調製できます。
二酸化ゲルマニウムは、主にゲルマニウムの製造と電子産業で使用されます。 半導体材料として使用されます。 ゲルマニウムの加熱酸化または四塩化ゲルマニウムの加水分解により調製される。 金属ゲルマニウムをはじめとするゲルマニウム化合物の製造原料、ポリエチレンテレフタレート樹脂の製造触媒、スペクトル分析、半導体材料として使用されています。 光学ガラス蛍光体を製造でき、石油精製中の変換、脱水素、ガソリン留分調整、カラーフィルム、ポリエステル繊維製造の触媒として使用できます。 また、二酸化ゲルマニウムは重合触媒でもある。 二酸化ゲルマニウムを含むガラスは屈折率と分散性能が高く、広角カメラや顕微鏡レンズとして使用できます。 技術の発展に伴い、二酸化ゲルマニウムは、高純度の金属ゲルマニウム、ゲルマニウム化合物、化学触媒および製薬産業、PET樹脂、電子デバイスなどの製造に広く使用されています。